เอเอสเอ็มแอล (ASML) เปิดเผยเมื่อวันอังคาร (14 ก.ค.) ว่า อินเทล (Intel) ตัดสินใจนำเครื่องจักรไฮเอนด์รุ่นใหม่ล่าสุดจาก ASML มาใช้ผลิตชิป “Panther Lake” ซึ่งเป็นชิปสำหรับแล็ปท็อป
ASML เปิดเผยว่า หลังจากเริ่มทดลองใช้งานมาตั้งแต่ปี 2567 ล่าสุดอินเทลเริ่มนำเครื่องพิมพ์ลายวงจรด้วยแสงอัลตราไวโอเลตยิ่งยวดเจเนอเรชันใหม่ที่มีค่ารูรับแสงสูง หรือ High NA EUV (High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet) ของ ASML มาช่วยผลิตชิปประมวลผล Panther Lake บางส่วนแล้ว
ที่ผ่านมา วงการเซมิคอนดักเตอร์ถกเถียงกันว่า ช่วงเวลาใดจึงจะคุ้มค่ากับการลงทุนหากเริ่มนำเครื่องมือ High NA มาใช้งานจริง เนื่องจากผู้ผลิตชิปจำเป็นต้องใช้เครื่องมือดังกล่าวในอนาคตเพื่อลดขนาดโครงสร้างระดับอะตอมที่เป็นส่วนประกอบของชิปลงไปอีก ทว่าอุปกรณ์ High NA มีราคาสูงถึงราว 400 ล้านดอลลาร์สหรัฐ ซึ่งแพงกว่าเครื่อง EUV รุ่นมาตรฐานถึงสองเท่าตัว และยังมีความท้าทายทางเทคนิคอย่างมากในการนำมาใช้ในกระบวนการผลิตจริง
การที่อินเทลเลือกใช้เครื่องมือ High NA สำหรับบางเลเยอร์ที่เฉพาะเจาะจงของชิปในครั้งนี้ จะช่วยให้อินเทลและ ASML สามารถจัดเก็บข้อมูลเพื่อนำไปปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงานของเครื่องมือร่วมกันได้
ปัจจุบันอินเทลใช้เทคโนโลยีการผลิตระดับ 18A ผลิตชิป Panther Lake และใช้งานเครื่องพิมพ์ลายวงจรด้วยแสง EUV รุ่นมาตรฐานของ ASML อยู่ก่อนแล้ว ซึ่งขั้นตอนลิโทกราฟี (Lithography) หรือการพิมพ์ลายวงจรนี้ เป็นการใช้แสงวาดลวดลายวงจรที่ซับซ้อนลงบนชิป
ทั้งนี้ อินเทลรับมอบเครื่องมือ High NA เครื่องแรกตั้งแต่ปี 2567 ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาฮิลส์โบโร รัฐออริกอน ซึ่งเป็นสถานที่หลักที่ใช้พัฒนาเทคนิคและเทคโนโลยีการผลิตใหม่ ๆ ของบริษัท
โดย พสิษฐ์ อุ่นเมตตาจิต/กนิษฐ์นุช สิริสุทธิ์
